インターン
卒年不問
技術職
Apple Technical PhD Internship Optical Critical Dimension (OCD) Metrology and Modeling Development のご案内
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勤務地
Yokohama, Kanagawa-ken, Japan
Description
- Develop RCWA-based OCD modeling methodologies for diffractive nanostructures.
- Identify critical degrees of freedom (DOF) and fitting parameters required for optimize diffractive element process maps
- Explore and propose techniques to enhance the accuracy of model fitting compared against ground truth experimental data
- Assess the Gauge Repeatability and Reproducibility (GR&R) of OCD equipment.
- Integrate RCWA findings and improve models for supporting design validation simulations and process control recommendations
Minimum Qualifications
・Strong academic background in optical physics, optical engineering, or a related field.
・Experience with OCD metrology, RCWA simulations, or similar optical modeling techniques.
・Analytical mindset with a focus on accuracy and detail in synthesizing simulated and experimental data
・Ability to work independently on complex, research-driven tasks while effectively communicating findings to the team.
・Must hold relevant work permit in Japan for the duration of the internship.
・Currently enrolled in a PhD Program
詳細、ご応募は下記リンクよりご確認ください。
2025年04月10日更新
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